[发明专利]清洁半导体设备的方法和半导体设备管理系统在审
| 申请号： | 201910567532.6 | 申请日： | 2019-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN111215387A | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 吴炅桓;吴允锡;李虎烈;朴修满;朴元基;张永日 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 陈晓博;韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了清洁半导体设备的方法和半导体设备管理系统。所述清洁半导体设备的方法包括：监控半导体设备的管道中的流体的状态；通过使用借助监控收集的数据来构建数据库；基于通过监控收集并储存在数据库的数据来诊断管道的状态；以及在管道的状态被诊断为异常时通过使用超声波来清洁管道。通过使用至少两个超声波发生器来清洁管道。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 半导体设备 方法 半导体 设备管理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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