[发明专利]一种用于Low-E玻璃的硅铝锆靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 201910567804.2 | 申请日： | 2019-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN110129759B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 常金永 | 申请（专利权）人： | 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14;C23C4/134;C23C4/067;C22C1/02;C22C1/04 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷红梅 |
| 地址： | 214437 江苏省无锡市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于Low‑E玻璃的硅铝锆靶材，其特征在于：各组分按重量份数计包括：硅61‑85份，锆6.7‑27份，铝3.8‑9.1份，Al3Ni 0.5‑2.6份，锡0.08‑0.2份，硼0.15‑0.5份，铌0.01‑0.05份，钇0.002‑0.008份。本发明制备方法简单，步骤易于操作，硅铝锆靶材中含有适量的锆，能增强薄膜的硬度和耐腐蚀性；铝元素能降低靶材的电阻，并减少薄膜的应力；硼能提高铝合金粉的熔点，降低其与硅锆合金粉的熔点差，使其在等离子喷涂过程中不易产生积瘤；其余元素的加入能够增强膜层的稳定性，提高使用寿命，用作Low‑E玻璃的介质层，光学性能好，致密性高，耐腐蚀性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 low 玻璃 硅铝锆靶材 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种用于Low‑E玻璃的硅铝锆靶材，其特征在于：各组分按重量份数计包括：硅61‑85份，锆6.7‑27份，铝3.8‑9.1份，Al3Ni 0.5‑2.6份，锡 0.08‑0.2份，硼0.15‑0.5份，铌0.01‑0.05份，钇0.002‑0.008份。
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