[发明专利]具有反射层的铟镓砷光电探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910572210.0 申请日: 2019-06-27
公开(公告)号: CN112234116A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 吴作贵;朱忻;托马斯·盖德 申请(专利权)人: 张家港恩达通讯科技有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/0232;H01L31/18
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 陈小玲
地址: 215614 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及光电子设备技术领域,具体涉及一种具有反射层的铟镓砷光电探测器及其制备方法,旨在解决现有技术中光电探测器的材料厚度大、光生载流子的自由程高、器件的量子效率和工作效率低,其技术要点在于包括通过MOCVD制得的外延结构,所述外延结构包括依次设置的InP衬底、InP缓冲层、GaAsSb/AlGaAsSb DBR反射层、InGaAs吸收层,InP窗口层;其中,所述GaAsSb/AlGaAsSb DBR反射层用以反射入射波段的光子。本发明在铟镓砷光电探测器中增加了GaAsSb/AlGaAsSb DBR反射层,使更多穿透吸收层的光子反射回来重新吸收,可以在较薄吸收层的情况下,获得较强的光吸收,减少光生载流子的自由程,提高器件的量子效率和工作速度,降低器件暗电流。
搜索关键词: 具有 反射层 铟镓砷 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
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