[发明专利]具有反射层的铟镓砷光电探测器及其制备方法在审
申请号: | 201910572210.0 | 申请日: | 2019-06-27 |
公开(公告)号: | CN112234116A | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 吴作贵;朱忻;托马斯·盖德 | 申请(专利权)人: | 张家港恩达通讯科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01L31/0232;H01L31/18 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 陈小玲 |
地址: | 215614 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及光电子设备技术领域,具体涉及一种具有反射层的铟镓砷光电探测器及其制备方法,旨在解决现有技术中光电探测器的材料厚度大、光生载流子的自由程高、器件的量子效率和工作效率低,其技术要点在于包括通过MOCVD制得的外延结构,所述外延结构包括依次设置的InP衬底、InP缓冲层、GaAsSb/AlGaAsSb DBR反射层、InGaAs吸收层,InP窗口层;其中,所述GaAsSb/AlGaAsSb DBR反射层用以反射入射波段的光子。本发明在铟镓砷光电探测器中增加了GaAsSb/AlGaAsSb DBR反射层,使更多穿透吸收层的光子反射回来重新吸收,可以在较薄吸收层的情况下,获得较强的光吸收,减少光生载流子的自由程,提高器件的量子效率和工作速度,降低器件暗电流。 | ||
搜索关键词: | 具有 反射层 铟镓砷 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的