[发明专利]石墨载盘及具有其的MOCVD反应装置在审
| 申请号： | 201910575797.0 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN112144113A | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 陈浩;陶冠群;饶晓松;王明;刘敏;蒲健 | 申请（专利权）人： | 聚灿光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 沈晓敏 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种石墨载盘及具有其的MOCVD反应装置，石墨载盘呈圆形，且由石墨载盘中心朝向边缘的方向上，石墨载盘包括里圈区域、中圈区域及外圈区域，石墨载盘上设有若干用于承载4英寸衬底的凹槽，凹槽包括位于里圈区域的里圈凹槽、位于中圈区域的中圈凹槽及位于外圈区域的外圈凹槽，里圈区域设有6个里圈凹槽。本发明通过调整里圈凹槽的位置，使得里圈区域可以放置6个里圈凹槽，实现了4英寸外延生产的最大载片数，同时，可以有效改善现有石墨载盘技术在外延片生长过程中产生的圈位电压差异。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 具有 mocvd 反应 装置 | ||
【主权项】：
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