[发明专利]一种基于全彩荧光印品的发射光谱重建方法有效
申请号: | 201910577043.9 | 申请日: | 2019-06-28 |
公开(公告)号: | CN110399904B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
发明(设计)人: | 钟云飞;尚咪;刘丹飞;杨玲 | 申请(专利权)人: | 湖南工业大学 |
主分类号: | G06V10/77 | 分类号: | G06V10/77;G01N21/64;G01N21/25 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 杨千寻;冯振宁 |
地址: | 412002 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于全彩荧光印品的发射光谱重建方法。包括制备颜色样本,颜色样本涉及不同的网点覆盖率0%,25%,75%到100%的红、绿、蓝以及三者之间相互叠加形成的黄、品、青等336个,选择不同的承印材料和不同的加网方式处理;测量颜色样本在不同的激发光功率下的发射光谱强度;计算协方差矩阵E;计算协方差矩阵的特征值和特征向量,并将特征值从大到小进行排列;确定前m个主成分及相应的主成分样本矩阵Z;计算主成分的组成系数U,转换矩阵C;根据各自发光强度均值,主成分组成系数和转换矩阵重建发射光谱曲线。本发明的操作简单,可以准确表达全彩色荧光图像的颜色特征,评价图像色域与质量。 | ||
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【主权项】:
1.一种基于全彩荧光印品的发射光谱重建方法,其特征在于,包括以下步骤:S1.利用凹版印刷机和上转换荧光墨水印刷制备颜色样本;S2.对制备完成的颜色样本进行发射光谱强度的测量;S3.对所测量的荧光样本在351~748nm波长下的发射光谱强度均值化为E0(λ);S4.对每个荧光样本计算其协方差矩阵E;S5.计算各自协方差矩阵的特征值和特征向量,并将结果按从大到小顺序排列;S6.对荧光样本的光谱强度值确定前m个主成分并计算对应的主成分样本矩阵Z;S7.计算上述主成分样本矩阵的组成系数矩阵U和转换矩阵C;S8.利用所计算出的系数矩阵、均值矩阵和转换矩阵对随机抽取的测试样本的发射光光谱值进行重建,得到重建后的发射光谱曲线。
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