[发明专利]光刻设备的瞳面透过率分布的检测方法有效
申请号: | 201910579128.0 | 申请日: | 2019-06-28 |
公开(公告)号: | CN112147852B | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
发明(设计)人: | 孙文凤 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种光刻设备的瞳面透过率分布的检测方法。提供多种相位掩模图形,并使从不同的相位掩模图形投射出的第二级子光束分别对应在成像系统的瞳面的不同位置,从而可以对成像系统的瞳面上的多个检测点进行光瞳透过率检测,进而得到整个瞳面的透过率分布。即,本发明提供的瞳面透过率分布的检测方法,其检测过程便捷,并且检测时长也较短,有利于实现光刻设备以短周期执行检测过程,以及时的监控光刻设备的光瞳透过率状态。 | ||
搜索关键词: | 光刻 设备 透过 分布 检测 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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