[发明专利]对准系统及其操作方法在审
| 申请号： | 201910581985.4 | 申请日： | 2019-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN110610891A | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 张咏诚 | 申请（专利权）人： | 索尔思光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68;H01L23/544 |
| 代理公司： | 11590 北京市领专知识产权代理有限公司 | 代理人： | 林辉轮;张玲 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | 本发明提供一种对准系统，包含一调整台、一运算模块、一第一取像装置与一第二取像装置、以及一拾取装置。该调整台经配置以置放以及调整一基板。该运算模块经配置以提供至少一第一虚拟图像与一第二虚拟图像。该第一取像装置与该第二取像装置经配置用以撷取该基板上至少一第一区域与一第二区域之影像。该拾取装置经配置以拾取至少一第一组件与一第二组件。该调整台系调整该基板。该拾取装置系放置该第一组件至该第一区域内并迭合该第一组件与该第一虚拟图案，以及放置该第二组件至该第二区域内并迭合该第二组件与该第二虚拟图像。 | ||
| 搜索关键词： | 取像装置 第二组件 第一组件 拾取装置 虚拟图像 调整台 基板 第二区域 第一区域 运算模块 配置 对准系统 虚拟图案 拾取 置放 撷取 影像 | ||
【主权项】：
1.一种对准系统，包含：/n一调整台，经配置以置放一基板以及调整该基板；/n一运算模块，经配置以提供至少一第一虚拟图像(virtual mask)与一第二虚拟图像，且该第一虚拟图像与该第二虚拟图像不同；/n一第一取像装置与一第二取像装置，经配置用以撷取该基板上至少一第一区域以及一第二区域之影像，并提供该第一区域之影像与该第二区域之影像至该运算模块；以及/n一拾取装置，经配置以拾取至少一第一组件与一第二组件，/n其中该调整台系调整该基板，以迭合该第一区域之影像与该第一虚拟图像，以及迭合该第二区域之影像与该第二虚拟图像，该拾取装置系放置该第一组件至该第一区域内并迭合该第一组件与该第一虚拟图像，以及放置该第二组件至该第二区域内并迭合该第二组件与该第一虚拟图像，且该第一组件与该第二组件不同。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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