[发明专利]低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管及其制作方法有效
申请号: | 201910582366.7 | 申请日: | 2019-06-28 |
公开(公告)号: | CN110246903B | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 金湘亮;汪洋 | 申请(专利权)人: | 湖南师范大学 |
主分类号: | H01L31/02 | 分类号: | H01L31/02;H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18 |
代理公司: | 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙) 43108 | 代理人: | 陈伟 |
地址: | 410012 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管,包括衬底P‑Sub,衬底P‑Sub上设有PBL区,PBL区上设有P‑EPI区,P‑EPI区中设有P‑Well区,P‑Well区中设有P+注入区,P‑EPI区内侧设有DN‑Well区,DN‑Well区中设有N‑Well区,N‑Well区中设有N+注入区;N+注入区、N‑Well区、DN‑Well区、PBL区,构成全耗尽区域。本发明中全耗尽区域的存在能够使得器件的光子检测概率提高,而且耗尽区会使得电场分布峰值远离器件材料的表面区域,大幅度降低材料缺陷引起的能级捕获问题,降低所述器件的暗电流,达到低噪声的目的。 | ||
搜索关键词: | 噪声 光谱 响应 光子 雪崩 光电二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管,其特征在于:包括衬底P‑Sub、PBL区、DN‑Well区、P‑EPI区、N‑Well区、P‑Well区、P+注入区、N+注入区;所述衬底P‑Sub上设有PBL区,PBL区上设有环形P‑EPI区,P‑EPI区中设有环形P‑Well区,P‑Well区中设有环形P+注入区,所述P‑EPI区内侧设有环形DN‑Well区,DN‑Well区 中设有环形N‑Well区,N‑Well区中设有N+注入区;所述N+注入区、N‑Well区、DN‑Well区、PBL区,构成全耗尽区域;所述P+注入区引出用作单光子雪崩光电二极管的阴极;所述N+注入区引出用作单光子雪崩光电二极管的阳极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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