[发明专利]低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201910582366.7 申请日: 2019-06-28
公开(公告)号: CN110246903B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 金湘亮;汪洋 申请(专利权)人: 湖南师范大学
主分类号: H01L31/02 分类号: H01L31/02;H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙) 43108 代理人: 陈伟
地址: 410012 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管,包括衬底P‑Sub,衬底P‑Sub上设有PBL区,PBL区上设有P‑EPI区,P‑EPI区中设有P‑Well区,P‑Well区中设有P+注入区,P‑EPI区内侧设有DN‑Well区,DN‑Well区中设有N‑Well区,N‑Well区中设有N+注入区;N+注入区、N‑Well区、DN‑Well区、PBL区,构成全耗尽区域。本发明中全耗尽区域的存在能够使得器件的光子检测概率提高,而且耗尽区会使得电场分布峰值远离器件材料的表面区域,大幅度降低材料缺陷引起的能级捕获问题,降低所述器件的暗电流,达到低噪声的目的。
搜索关键词: 噪声 光谱 响应 光子 雪崩 光电二极管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种低噪声宽光谱响应的单光子雪崩光电二极管,其特征在于:包括衬底P‑Sub、PBL区、DN‑Well区、P‑EPI区、N‑Well区、P‑Well区、P+注入区、N+注入区;所述衬底P‑Sub上设有PBL区,PBL区上设有环形P‑EPI区,P‑EPI区中设有环形P‑Well区,P‑Well区中设有环形P+注入区,所述P‑EPI区内侧设有环形DN‑Well区,DN‑Well区 中设有环形N‑Well区,N‑Well区中设有N+注入区;所述N+注入区、N‑Well区、DN‑Well区、PBL区,构成全耗尽区域;所述P+注入区引出用作单光子雪崩光电二极管的阴极;所述N+注入区引出用作单光子雪崩光电二极管的阳极。
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