[发明专利]滤波器器件结构及其制备方法在审
| 申请号： | 201910582822.8 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN110277483A | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 蔡文必;尚荣耀;尤建发;邹福松;侯汉成;朱庆芳;杨濬哲;谢祥政;张伟军;余兆全 | 申请（专利权）人： | 厦门市三安集成电路有限公司 |
| 主分类号： | H01L41/047 | 分类号： | H01L41/047;H01L41/29;H03H3/02;H03H9/05 |
| 代理公司： | 北京超成律师事务所 11646 | 代理人： | 王文红 |
| 地址： | 361100 福建省厦门*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本申请提供一种滤波器器件结构及其制备方法，涉及滤波器领域，包括：一衬底；一指插电极，置于衬底之一侧面上；以及一配线层，置于指插电极相对衬底之另一侧面上；其中，利用真空清洗指插电极，在镀膜制程制备配线层时去除指插电极与配线层接触之一侧面的表面氧化层。制备方法包括：获取一衬底材料，对衬底材料进行清洗；在衬底材料上制备指插电极；在指插电极上形成配线层。解决现有技术中，在制备滤波器配线层时，指插电极会氧化生成氧化层，从而导致配线层与指插电极的接触电阻增大的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 配线层 制备 衬底材料 衬底 滤波器 滤波器器件 表面氧化层 接触电阻 真空清洗 侧面 氧化层 增大的 镀膜 制程 去除 清洗 申请 | ||
【主权项】：
1.一种滤波器器件结构，其特征在于，包括：一衬底；一指插电极，设置于所述衬底之一侧面上；以及一配线层，设置于所述指插电极相对衬底之另一侧面上，其中，在藉由镀膜制程制备配线层时，去除所述指插电极与所述配线层接触之一侧面的表面氧化层。
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