[发明专利]一种高Al含量的c-TiAlSiN硬质涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201910584177.3 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN110257789B | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 荣铭聪 | 申请（专利权）人： | 广州大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 颜希文;宋静娜 |
| 地址： | 510006 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高铝含量的c‑TiAlSiN硬质涂层及其制备方法。本发明高铝含量的c‑TiAlSiN硬质涂层为单相立方结构，无纤锌矿型AlN析出，能通过使用直流磁控溅射Ti靶材，使用高功率脉冲磁控溅射AlSi靶材，共溅射沉积制得，其中AlSi靶材中Si含量为0＜Si含量≤40at.％，制得的涂层中(Al+Si)/(Al+Ti+Si)的原子数比值可高达0.64；或者通过使用直流磁控溅射TiSi靶材，使用高功率脉冲磁控溅射Al靶材，共溅射沉积制得，其中TiSi靶材中Si含量为0＜Si含量≤40at.％，制得的涂层中(Al+Si)/(Al+Ti+Si)的原子数比值可高达0.67，这两种制备方法都能解决当前TiAlSiN纳米复合涂层中软质纤锌矿型AlN易析出的难点问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 al 含量 tialsin 硬质 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高Al含量的c‑TiAlSiN硬质涂层，其特征在于：所述涂层为单相立方结构。
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