[发明专利]基于二次椭圆模型的非平飞双站SAR频域FENLCS成像方法有效
| 申请号： | 201910584338.9 | 申请日： | 2019-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN110596701B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 钟华;陈国瑾;刘静;叶宗奇;赵荣华;李世平;王梦圆 | 申请（专利权）人： | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | G01S13/90 | 分类号： | G01S13/90 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 周希良 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于二次椭圆模型的非平飞双站SAR频域FENLCS成像方法：首先进行了距离向预处理，即在距离向应用了线性距离走动矫正、KT变换、一致距离徙动矫正、二次距离压缩。其次，进行了方位空变的残余高阶距离徙动矫正处理。根据距离向预处理结果，本发明提出了二次椭圆模型，用于准确描述等距点接收机斜视角与波束中心斜距的方位空变特性。本发明提出基于二次椭圆模型的改进的FENLCS成像处理方法，实现了残余多普勒中心、多普勒调频率和高次相位系数随方位位置空变的特性的去除，进而完成方位统一聚焦处理。此外，提出了一种频域高次非空变预滤波方法，简化了FENLCS算法的推导过程，提高聚焦质量。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 二次 椭圆 模型 平飞 sar 频域 fenlcs 成像 方法 | ||
【主权项】：
1.基于二次椭圆模型的非平飞双站SAR频域FENLCS成像方法，包括如下步骤：/n步骤1、构建非平飞双站SAR的波束同步几何模型，分析此模型的回波信号特性，并对其进行距离向预处理；/n步骤2、构建二次椭圆模型，利用方位空变的残余高阶RCMC方法提高距离向处理的精度；/n步骤3、对方位空变的多普勒相位进行建模，采用改进的频域非线性变标的方位统一聚焦处理实现方位均衡，最后进行时域压缩，获得最终的聚焦图像。/n
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