[发明专利]具有方位调制剂层的光学器件在审
| 申请号： | 201910585145.5 | 申请日： | 2019-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN110658579A | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 雅罗斯拉夫·齐巴;约翰尼斯·P·赛德尔 | 申请（专利权）人： | 唯亚威通讯技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/22 | 分类号： | G02B5/22 |
| 代理公司： | 11262 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了具有方位调制剂层的光学器件。一种光学器件，包括反射体层，所述反射体层具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、第三表面和与第三表面相对的第四表面；以及第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在反射体层的第一表面的外部；其中第三表面和第四表面中的至少一个包括方位调制剂层。还公开了制造光学器件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 调制剂 第一表面 反射体层 光学器件 选择性光 表面相对 第二表面 外部 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光学器件，包括：/n反射体层，所述反射体层具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面；第三表面和与所述第三表面相对的第四表面；以及/n第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在所述反射体层的所述第一表面的外部；/n其中所述第三表面和所述第四表面中的至少一个包括方位调制剂层。/n
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