[发明专利]释放负离子的珐琅釉浆及使用其制备负离子珐琅板的方法有效

专利信息
申请号: 201910590446.7 申请日: 2019-07-02
公开(公告)号: CN110372208B 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 曹益亭;曹力力;邢翰学 申请(专利权)人: 浙江开尔新材料股份有限公司
主分类号: C03C8/00 分类号: C03C8/00;C03C1/00;C23D5/02;C23D7/00
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 姜海荣
地址: 321036 浙江省金*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种负离子珐琅釉浆,由下述重量份的原料组成:基釉200份、负离子材料0.2‑6份、色料2‑10份、助剂0.2‑0.6份、悬浮剂10‑16份、水90‑110份。使用该负离子珐琅釉浆制备负离子珐琅板的方法,包括以下步骤:称取原料;球磨:将称取的各原料装入球磨机的球磨罐中球磨,得釉浆;喷涂烘干:将所得釉浆过筛,再通过浸搪或湿法喷涂的方式把釉浆喷涂于钢板胚上,然后放入干燥箱烘干,得板胚;烧成:将所得板胚放在烧成炉中烧成。本发明可以实现珐琅板持续不断的释放对人体有益的负离子,对于推动绿色环保珐琅建材的发展具有重要的开创性意义。
搜索关键词: 释放 负离子 珐琅 使用 制备 方法
【主权项】:
1.一种释放负离子的珐琅釉浆,其特征在于,由下述重量份的原料组成:基釉200份、负离子材料0.2‑6份、色料2‑10份、助剂0.2‑0.6份、悬浮剂10‑16份、水90‑110份。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江开尔新材料股份有限公司,未经浙江开尔新材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910590446.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top