[发明专利]一种无电沉积制备金纳米管阵列的方法及其在增强近红外量子剪裁发光中的应用在审
申请号: | 201910590729.1 | 申请日: | 2019-07-02 |
公开(公告)号: | CN110257804A | 公开(公告)日: | 2019-09-20 |
发明(设计)人: | 郑标;王军;张诚;黄春雷;李玉良 | 申请(专利权)人: | 闽江学院 |
主分类号: | C23C18/08 | 分类号: | C23C18/08;C23C18/04;C25D11/10;C25D11/12;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 修斯文;蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及一种无电沉积制备金纳米管阵列的方法。金纳米管阵列镶嵌在AAO模板孔洞中,管外径约为110nm,管内径约为30‑50nm,管壁厚约为30~40nm;方法为先通过二次阳极氧化法制备大面积、孔径均匀的AAO模板;再利用无电沉积法在AAO模板孔隙中生长大面积、高度有序的金纳米管阵列,通过改变无电沉积的反应时间实现调控金纳米管的管壁厚度。相比于电沉积制备金纳米管阵列的方法,本发明具有一步合成、工艺简单、操作方便等优点,金纳米管阵列能够产生显著增强的局域电场,可实现对近红外量子剪裁发光的增强效应,在太阳能电池领域具有潜在应用。 | ||
搜索关键词: | 金纳米管 无电沉积 制备 红外量子 剪裁 发光 太阳能电池领域 二次阳极氧化 孔洞 高度有序 管壁厚约 一步合成 电场 电沉积 再利用 管壁 应用 镶嵌 生长 调控 | ||
【主权项】:
1.一种无电沉积制备金纳米管阵列的方法,其特征在于:以氧化铝模板AAO和氯金酸HAuCl4为原料,将AAO模板和HAuCl4溶液置于高压反应釜中,通过无电沉积法在AAO模板孔隙中形成大面积、高度有序的金纳米管阵列,利用金纳米管阵列之间相互耦合产生的显著增强的局域电场,可实现对稀土离子近红外量子剪裁发光的增强效应。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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