[发明专利]用于钨的中性至碱性化学机械抛光组合物和方法有效
| 申请号： | 201910596883.X | 申请日： | 2019-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN110669438B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 郭毅;T·Q·德兰 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04;B24B57/02;B24D13/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露了一种用于抛光钨的中性至碱性化学机械组合物，其包含作为初始组分的以下组分：水；选自碘酸盐化合物、高碘酸盐化合物及其混合物的氧化剂；包含含氮化合物的胶体二氧化硅磨粒；任选地，pH调节剂；和任选地，杀生物剂。所述化学机械抛光方法包括提供具有抛光表面的化学机械抛光垫；在抛光垫与衬底之间的界面处产生动态接触；并将中性至碱性化学机械抛光组合物在抛光垫与衬底之间的界面处或其附近分配到抛光表面上；其中一些钨被从衬底上抛光掉，并且还至少抑制钨的静态蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 中性 碱性 化学 机械抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光组合物，其包含作为初始组分的以下组分：水；选自由以下各项组成的组的氧化剂：碘酸盐化合物、高碘酸盐化合物及其混合物；/n包含含氮化合物的胶体二氧化硅磨粒；/n任选地，pH调节剂；以及，/n任选地，杀生物剂；并且其中所述化学机械抛光组合物的pH等于或大于7。/n
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