[发明专利]一种带隙可调的单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片的制备方法在审
申请号: | 201910599140.8 | 申请日: | 2019-07-04 |
公开(公告)号: | CN110451487A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 曹传宝;吴玉军 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100081北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种带隙可调的单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片的制备方法,该方法以羧酸盐、硼酸盐和碳酸盐为原料。包括以下步骤:(1)将羧酸盐、硼酸盐和碳酸盐化合物按照摩尔比例为0.001:0.001:100~100:100:0.001混合研磨均匀;(2)将步骤(1)中得到的混合物在惰性气体氛围下煅烧;(3)将步骤(2)中所得的产物依次使用稀盐酸、蒸馏水和乙醇洗涤数次,随后将得到的产物干燥得到单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片。本发明的突出优点是:合成原料价格便宜,合成步骤简单快捷,合成过程绿色环保,制备得到的样品具有可调的光学带隙,在光学及电学器件方面具有极大的潜在应用。 | ||
搜索关键词: | 石墨烯纳米片 硼掺杂 硼酸盐 羧酸盐 单层 制备 碳酸盐 蒸馏水 惰性气体氛围 碳酸盐化合物 带隙可调 电学器件 光学带隙 合成步骤 合成过程 合成原料 混合研磨 绿色环保 乙醇洗涤 混合物 可调的 稀盐酸 煅烧 应用 | ||
【主权项】:
1.一种带隙可调的单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片的制备方法,其特征在于:/n(1)将羧酸盐化合物,硼酸盐化合物和碳酸盐化合物按照摩尔比例为0.001:0.001:100~100:100:0.001混合研磨均匀;/n(2)将步骤(1)中研磨制得的混合物放入管式炉中,在惰性气体氛围下设置升温速率为0~20℃/min时于200~3200℃条件下煅烧0~3000min,煅烧完毕后,在惰性气体氛围下自然冷却至室温;/n(3)将步骤(2)中所得的产物依次使用0.01~5mol/L稀盐酸、蒸馏水和乙醇洗涤数次以除去多余的盐类化合物,随后将得到的产物干燥得到单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片。/n
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