[发明专利]一种带隙可调的单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910599140.8 申请日: 2019-07-04
公开(公告)号: CN110451487A 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 曹传宝;吴玉军 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: C01B32/184 分类号: C01B32/184
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种带隙可调的单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片的制备方法,该方法以羧酸盐、硼酸盐和碳酸盐为原料。包括以下步骤:(1)将羧酸盐、硼酸盐和碳酸盐化合物按照摩尔比例为0.001:0.001:100~100:100:0.001混合研磨均匀;(2)将步骤(1)中得到的混合物在惰性气体氛围下煅烧;(3)将步骤(2)中所得的产物依次使用稀盐酸、蒸馏水和乙醇洗涤数次,随后将得到的产物干燥得到单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片。本发明的突出优点是:合成原料价格便宜,合成步骤简单快捷,合成过程绿色环保,制备得到的样品具有可调的光学带隙,在光学及电学器件方面具有极大的潜在应用。
搜索关键词: 石墨烯纳米片 硼掺杂 硼酸盐 羧酸盐 单层 制备 碳酸盐 蒸馏水 惰性气体氛围 碳酸盐化合物 带隙可调 电学器件 光学带隙 合成步骤 合成过程 合成原料 混合研磨 绿色环保 乙醇洗涤 混合物 可调的 稀盐酸 煅烧 应用
【主权项】:
1.一种带隙可调的单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片的制备方法,其特征在于:/n(1)将羧酸盐化合物,硼酸盐化合物和碳酸盐化合物按照摩尔比例为0.001:0.001:100~100:100:0.001混合研磨均匀;/n(2)将步骤(1)中研磨制得的混合物放入管式炉中,在惰性气体氛围下设置升温速率为0~20℃/min时于200~3200℃条件下煅烧0~3000min,煅烧完毕后,在惰性气体氛围下自然冷却至室温;/n(3)将步骤(2)中所得的产物依次使用0.01~5mol/L稀盐酸、蒸馏水和乙醇洗涤数次以除去多余的盐类化合物,随后将得到的产物干燥得到单层p型硼掺杂的石墨烯纳米片。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910599140.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top