[发明专利]一种深度分辨的X射线致辐射发光测量的装置及方法在审

专利信息
申请号: 201910605406.5 申请日: 2019-07-05
公开(公告)号: CN110208301A 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 仇猛淋;王广甫 申请(专利权)人: 北京师范大学
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 崔自京
地址: 100089 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种深度分辨的X射线致辐射发光测量的装置及方法,其中装置包括:毛细管透镜、样品控制台、光学透镜和光谱仪,X射线经过毛细管透镜后聚焦在设置于样品控制台上的样品表面,样品经X射线致辐射激发产生的荧光经光学透镜射入至光谱仪。本发明结构简单,测量精度高,实现了X射线致辐射发光光谱测量中样品不同深度处光谱信息的采集。
搜索关键词: 辐射 透镜 光谱仪 光学透镜 深度分辨 测量 毛细管 发光 控制台 测量精度高 发光光谱 光谱信息 样品表面 样品控制 荧光 射入 聚焦 采集 激发
【主权项】:
1.一种深度分辨的X射线致辐射发光测量的装置,其特征在于,包括:毛细管透镜、样品控制台、光学透镜和光谱仪,X射线经过所述毛细管透镜后聚焦在设置于所述样品控制台上的样品表面,样品经X射线致辐射激发产生的荧光经所述光学透镜射入至所述光谱仪。
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