[发明专利]带遮挡的溅射沉积装置及方法在审
| 申请号： | 201910605964.1 | 申请日： | 2019-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN110684953A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 德米特里·泊普拉维斯基 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;C23C14/04;C23C14/35;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种溅射沉积系统和方法，该系统包括一个工艺模块，该工艺模块包括一个配置为接收一个移动衬底的真空外壳，一个设置在该真空外壳中并包括一种靶材的第一溅射靶，以及一个设置在该第一溅射靶和该衬底之间的遮蔽件。该遮蔽件具有上边缘和下边缘。该上边缘和下边缘各自的至少一部分是不平行于该衬底经过该第一溅射靶的移动方向的。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射靶 衬底 工艺模块 真空外壳 上边缘 下边缘 遮蔽件 溅射沉积系统 移动方向 不平行 靶材 移动 配置 | ||
【主权项】：
1.一种溅射沉积系统，包括一个工艺模块，所述工艺模块包括：/n一个真空外壳，配置为接收一个移动衬底；/n一个第一溅射靶，设置在所述真空外壳中并且包括一种靶材；以及/n一个遮蔽件，设置在所述第一溅射靶和所述衬底之间，所述遮蔽件具有上边缘和下边缘，/n其中所述上边缘和所述下边缘各自的至少一部分是不平行于所述衬底经过所述第一溅射靶的移动方向的。/n
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