[发明专利]一种采用双刀无空行程进行机械刻划衍射光栅的方法在审
| 申请号： | 201910608513.3 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110286433A | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 石广丰;史潮潮;史国权 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种采用双刀无空行程进行机械刻划衍射光栅的方法，其特征在于，两把具有相同结构参数的刻刀反向、斜错安装于同一刀架上，并分别具有单独的抬刀、落刀运动功能，沿同一刻划方向的两把刻刀安装角度相同(其中俯仰角相反)，在落刀前具有相同的初始高度，双刀随着刀架刻划运动时只有一个刻刀参与刻划，一把刻刀负责正向刻划，另一把斜错刻刀负责一个横向槽距位置处的反向刻划，然后刀架统一横向进给两个槽距进行下一周期正反刻划，从而使得整个刻划过程中没有空行程产生并减少了一半横向进给次数，能够在保证原有刻划质量的前提下，有效减少机械刻划衍射光栅所需要的时间，提高机械刻划衍射光栅的工作效率，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 刻划 刻刀 机械刻划 衍射光栅 刀架 双刀 横向进给 无空行程 工作效率 结构参数 有效减少 刀运动 俯仰角 横向槽 空行程 位置处 槽距 抬刀 正向 保证 统一 | ||
【主权项】：
1.一种采用双刀无空行程进行机械刻划衍射光栅的方法，其特征在于：两把具有相同结构参数的刻刀正向、斜错安装于同一刀架上，并分别具有单独的抬刀、落刀运动功能，沿同一刻划方向的两把刻刀安装角度相同(其中俯仰角相反)，在落刀前具有相同的初始高度，双刀随着刀架刻划运动时只有一个刻刀参与刻划，一把刻刀负责正向刻划，另一把斜错刻刀负责一个横向槽距位置处的反向刻划，然后刀架统一横向进给两个槽距进行下一周期正反刻划。
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