[发明专利]一种石墨烯基弹性结构体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910609923.X 申请日: 2019-07-08
公开(公告)号: CN110342498B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 高超;彭蠡;沈颖;俞丹萍;郭燕;刘一晗 申请(专利权)人: 浙江大学;杭州高烯科技有限公司
主分类号: C01B32/184 分类号: C01B32/184;C01B32/194
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种石墨烯基弹性结构体及其制备方法,石墨烯弹性结构体由石墨烯结构单元组成,石墨烯结构单元为厚度为30‑100nm、面积为100~40000μm2的石墨烯纳米膜,所述的石墨烯纳米膜与相邻的石墨烯结构单元发生交联,构成立体结构。所述石墨烯纳米膜的杂原子含量在10wt%以下,缺陷密度ID/IG在0.02以上。这种结构单元增强了石墨烯的强度以及形变模量,极大的保持了气凝胶应用过程中的完整性以及高导电特性,保证了石墨烯的高弹性,在低温情况下仍具有良好的形变特性,确保了其低温性能稳定性,为太空设备的低体积升空以及太空下的折叠伸展提供了良好的思路。
搜索关键词: 一种 石墨 弹性 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种石墨烯基弹性结构体,其特征在于,由石墨烯结构单元组成,所述石墨烯结构单元为厚度为30‑100nm、面积为100~40000μm2的石墨烯纳米膜,所述的石墨烯纳米膜边缘与相邻的石墨烯结构单元发生交联,构成立体多孔结构。所述石墨烯纳米膜的杂原子含量在10wt%以下,缺陷密度ID/IG在0.02以上。
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