[发明专利]N,N-配位的含间位碳硼烷配体的钯配合物及其制备与应用有效
| 申请号： | 201910615165.2 | 申请日： | 2019-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN110372755B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 姚子健;李荣建;吕文瑞;高永红;邓维 | 申请（专利权）人： | 上海应用技术大学 |
| 主分类号： | C07F15/00 | 分类号： | C07F15/00;B01J31/18;C07C231/08;C07C233/03;C07C233/25;C07C233/15 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 吴文滨 |
| 地址： | 201418 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明涉及N,N‑配位的含间位碳硼烷配体的钯配合物及其制备与应用，钯配合物的制备方法包括以下步骤：1)将n‑BuLi溶液加入至间位碳硼烷溶液中，之后在室温下反应30‑60min；2)加入3‑氯甲基吡啶，并在室温下反应3‑5h；3)加入PdCl |
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| 搜索关键词： | 间位 碳硼烷配体 配合 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
1.N,N‑配位的含间位碳硼烷配体的钯配合物，其特征在于，该钯配合物的结构式如下所示：![]()
其中，“·”为硼氢键。
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