[发明专利]一种高增益带宽积的光探测器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910616134.9 申请日: 2019-07-09
公开(公告)号: CN110364590A 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 曾磊;王肇中 申请(专利权)人: 武汉光谷量子技术有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0232;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/107
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 董婕
地址: 430000 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种高增益带宽积的光探测器的制造方法,涉及光探测器技术领域,包括以下步骤:步骤S1,在衬底上,依次生长缓冲层、第一渐变层、有源层、第二渐变层、第一功能层、第二功能层、扩散控制层和顶层形成外延结构;步骤S2,对整个外延结构进行第一次锌扩散工艺,使锌扩散至扩散控制层;步骤S3,遮蔽部分外延结构,对未遮蔽部分外延结构进行第二次锌扩散工艺,使锌扩散至第二渐变层以形成TWSOA,被遮蔽部分外延结构形成WGAPD;步骤S4,刻蚀外延结构将TWSOA和WGAPD分离,并形成条形的TWSOA和WGAPD;步骤S5,分别制造TWSOA和WGAPD的电极。本发明还公开了一种高增益带宽积的光探测器。本发明的光探测器的增益带宽积能够达到1000GHz。
搜索关键词: 外延结构 光探测器 高增益 渐变层 遮蔽 带宽 扩散控制层 扩散工艺 功能层 锌扩散 次锌 制造 增益带宽 电极 缓冲层 衬底 顶层 刻蚀 源层 生长
【主权项】:
1.一种高增益带宽积的光探测器的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底上,依次生长缓冲层、第一渐变层、有源层、第二渐变层、第一功能层、第二功能层、扩散控制层和顶层形成外延结构;对整个外延结构进行第一次锌扩散工艺,使锌扩散至扩散控制层;遮蔽部分外延结构,对未遮蔽部分外延结构进行第二次锌扩散工艺,使锌扩散至第二渐变层以形成TWSOA,被遮蔽部分外延结构形成WGAPD;刻蚀外延结构将TWSOA和WGAPD分离,并形成条形的TWSOA和WGAPD。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光谷量子技术有限公司,未经武汉光谷量子技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910616134.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top