[发明专利]一种高增益带宽积的光探测器及其制造方法在审
申请号: | 201910616134.9 | 申请日: | 2019-07-09 |
公开(公告)号: | CN110364590A | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 曾磊;王肇中 | 申请(专利权)人: | 武汉光谷量子技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0232;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/107 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 董婕 |
地址: | 430000 湖北省武汉市东湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种高增益带宽积的光探测器的制造方法,涉及光探测器技术领域,包括以下步骤:步骤S1,在衬底上,依次生长缓冲层、第一渐变层、有源层、第二渐变层、第一功能层、第二功能层、扩散控制层和顶层形成外延结构;步骤S2,对整个外延结构进行第一次锌扩散工艺,使锌扩散至扩散控制层;步骤S3,遮蔽部分外延结构,对未遮蔽部分外延结构进行第二次锌扩散工艺,使锌扩散至第二渐变层以形成TWSOA,被遮蔽部分外延结构形成WGAPD;步骤S4,刻蚀外延结构将TWSOA和WGAPD分离,并形成条形的TWSOA和WGAPD;步骤S5,分别制造TWSOA和WGAPD的电极。本发明还公开了一种高增益带宽积的光探测器。本发明的光探测器的增益带宽积能够达到1000GHz。 | ||
搜索关键词: | 外延结构 光探测器 高增益 渐变层 遮蔽 带宽 扩散控制层 扩散工艺 功能层 锌扩散 次锌 制造 增益带宽 电极 缓冲层 衬底 顶层 刻蚀 源层 生长 | ||
【主权项】:
1.一种高增益带宽积的光探测器的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底上,依次生长缓冲层、第一渐变层、有源层、第二渐变层、第一功能层、第二功能层、扩散控制层和顶层形成外延结构;对整个外延结构进行第一次锌扩散工艺,使锌扩散至扩散控制层;遮蔽部分外延结构,对未遮蔽部分外延结构进行第二次锌扩散工艺,使锌扩散至第二渐变层以形成TWSOA,被遮蔽部分外延结构形成WGAPD;刻蚀外延结构将TWSOA和WGAPD分离,并形成条形的TWSOA和WGAPD。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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