[发明专利]一种匀强电场辅助纳米压印成型装置及方法在审
| 申请号： | 201910617394.8 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN112213917A | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 谷岩;林洁琼;陈斯;李先耀;康洺硕;冯开拓;张昭杰;徐宏宇;徐贞潘;颜家瑄;易正发;戴得恩;卢发祥;刘骜;段星鑫 | 申请（专利权）人： | 长春工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种匀强电场辅助纳米压印成型装置及方法通过调节压印装置的上、下两电极板之间的电压来控制极板之间产生的匀强电场力，并以匀强电场力作为压印力进行压印，脱模时向两电极板之间反复施加正反两方向的等大可调电压，形成正反向的匀强电场力并以此作为脱模力，使压印模具与衬底分离。本发明采用匀强电场力作为压印力，使得压印模具受到均匀的力可使模具上的微结构更好的转印至基板上，同时以反复的正反两方向的匀强电场力作为脱模力，保证在脱模过程中图案的完整性，并且在脱模过程中通过调节水平调节装置，调节得到适宜的脱模角度，提高压印图案精度及分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电场 辅助 纳米 压印 成型 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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