[发明专利]一种基于溶液法的氧化硅基忆阻器及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201910617479.6 申请日: 2019-07-10
公开(公告)号: CN112216791B 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 张宗波;李鹏飞;徐彩虹;王丹 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人: 聂稻波;吕少楠
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种基于溶液法的氧化硅基忆阻器及其制备方法与应用。所述方法包括:1)在衬底上制备下电极,或者,提供或直接制备下电极;2)采用溶液法,以PHPS为原料,在所述下电极上制备SiOx介质层,得到SiOx介质层/下电极或者SiOx介质层/下电极/衬底;3)步骤2)完成后,在所述SiOx介质层上覆盖掩模板,制备上电极,得到所述氧化硅基忆阻器。本发明得到的忆阻器中的SiOx介质层,采用PHPS溶液法制备,制备的薄膜层致密、均一,且SiOx介质层与电极的附着性良好,无龟裂和孔洞等产生。
搜索关键词: 一种 基于 溶液 氧化 硅基忆阻器 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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