[发明专利]一种基于光学克尔效应的芯片集成全光相位调制方法在审
| 申请号： | 201910623845.9 | 申请日： | 2019-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN110376821A | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 杨林;郭凯;刘博;张晶晶;曹毅宁;许波 | 申请（专利权）人： | 军事科学院系统工程研究院网络信息研究所 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02F1/03;G02F1/01 |
| 代理公司： | 中国航天科工集团公司专利中心 11024 | 代理人： | 葛鹏 |
| 地址： | 100039*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于光学克尔效应的芯片集成全光相位调制方法、系统及存储介质，其中方法包括在芯片集成光路某一段传输波导内注入高功率X波段驱动光；驱动光引起非线性光学克尔效应，改变传输波导有效折射率；有效折射率变化影响该波导内传输的Y波段信号光，使其相位发生改变，实现光场调控。本发明可以减小由于特殊结构引入的传输损耗、机械易损特性和由外置电压带来的安全隐患；不会对信号光产生明显影响；通过一次曝光刻蚀过程直接加工制备。驱动光引入的额外损耗可忽略不计、信号光处于单光子良机，采用上述结构的量子干涉仪各臂传输损耗近似相同，干涉对比度有望接近理想值。 | ||
| 搜索关键词： | 芯片集成 有效折射率 传输波导 传输损耗 相位调制 信号光 驱动 全光 非线性光学 量子干涉仪 安全隐患 波段信号 存储介质 额外损耗 刻蚀过程 相位发生 一次曝光 直接加工 单光子 高功率 引入 波导 光场 光路 减小 外置 易损 制备 近似 传输 干涉 调控 | ||
【主权项】：
1.一种基于光学克尔效应的芯片集成全光相位调制方法，其特征在于所述方法包括：步骤一、在芯片集成光路某一段传输波导内注入高功率X波段驱动光；步骤二、驱动光引起非线性光学克尔效应，改变传输波导有效折射率；步骤三、有效折射率变化影响该波导内传输的Y波段信号光，使其相位发生改变，实现光场调控。
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