[发明专利]一种加入微光学元件的高分辨成像系统有效
申请号: | 201910624556.0 | 申请日: | 2019-07-11 |
公开(公告)号: | CN110333601B | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 王鲲鹏;匡登峰;温裕祥;吴文堂;王东亚 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军63921部队 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B23/00 |
代理公司: | 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 | 代理人: | 齐胜杰;李会娟 |
地址: | 100094 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及光学器件技术领域,公开了一种加入微光学元件的高分辨成像系统,所述高分辨成像系统的像差校正系统由像差校正透镜组和一个表面具有若干个沟槽结构的衍射透镜,首先使用像差校正透镜组对高分辨成像系统的轴上以及轴外的像差进行校正,然后通过在衍射透镜的表面形成沟槽结构,以形成微光学元件,并利用微光学元件与传统光学元件相反的色散性质,以与成像光学组件的色差相互补偿从而达到消除色差的目的,同时,进一步提升系统的分辨率,将高分辨成像系统的分辨率在各个视场角及各个可见光波段都提升到接近衍射极限、达到超高分辨成像。由于像差校正系统设置在成像光学组件的光线出射侧,因此像差校正系统的体积较小、重量较轻,对系统产生较小的额外载荷。 | ||
搜索关键词: | 一种 入微 光学 元件 分辨 成像 系统 | ||
【主权项】:
1.一种加入微光学元件的高分辨成像系统,包括成像光学组件,其特征在于,还包括:设置在成像光学组件和像面之间的像差校正透镜组,成像光学组件的出射光线经过像差校正透镜组的调整后出射;设置在像差校正透镜组和像面之间的衍射透镜,所述衍射透镜的表面具有若干个沟槽结构,经过像差校正透镜组的调整后的光线,投射至衍射透镜的沟槽结构上,经过调整后投射至像面上。
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