[发明专利]一种紫外光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910625116.7 申请日: 2019-07-11
公开(公告)号: CN110416333B 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 廖广兰;刘星月;刘智勇;谭先华;孙博;史铁林 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/101;H01L31/0352;H01L31/0203;H01L31/18
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 孔娜;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于微纳制造相关技术领域,其公开了一种紫外光电探测器及其制备方法,该制备方法包括以下步骤:(1)采用光刻套刻工艺和蒸发镀膜工艺在带有氮化硅绝缘层的硅基底上制备电极层;(2)在电极层上制备紫外探测薄膜,所述紫外探测薄膜是Mn掺杂CsPbBr3xCl3(1‑x)紫外探测薄膜,其是通过在所述电极层上依次蒸镀PbCl2层、CsBr层、CsCl层和MnCl2层而形成的;其中,x为0.05~0.1;(3)采用滴涂方式在所述紫外探测薄膜上制备封装保护层,以将所述紫外探测薄膜进行封装,由此得到所述紫外光电探测器。本发明的成本更低且更易得,制备工艺更简单,光吸收系数更高,载流子传输更快速,适用性较强。
搜索关键词: 一种 紫外 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种紫外光电探测器的制备方法,其特征在于,该制备方法包括以下步骤:(1)采用光刻套刻工艺和蒸发镀膜工艺在带有氮化硅绝缘层的硅基底上制备电极层;(2)在所述电极层上制备紫外探测薄膜,所述紫外探测薄膜是Mn掺杂CsPbBr3xCl3(1‑x)紫外探测薄膜,其是通过在所述电极层上依次蒸镀PbCl2层、CsBr层、CsCl层和MnCl2层而形成的;其中,x为0.05~0.1;(3)采用滴涂方式在所述紫外探测薄膜上制备封装保护层,以将所述紫外探测薄膜进行封装,由此得到所述紫外光电探测器。
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