[发明专利]碳化硅单晶生长装置及制造碳化硅单晶的方法有效
申请号: | 201910625636.8 | 申请日: | 2019-07-11 |
公开(公告)号: | CN110359087B | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | 徐良;蓝文安;占俊杰;阳明益;刘建哲;余雅俊 | 申请(专利权)人: | 浙江博蓝特半导体科技股份有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 董李欣 |
地址: | 321000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及半导体材料长晶领域,具体涉及提供了一种碳化硅单晶生长装置,包括:承料坩埚,用于放置碳化硅原料;第一感应加热线圈,设置于整个承料坩埚的外周;第二感应加热线圈,设置于第一感应加热线圈的外周;第二感应加热线圈的位置靠近承料坩埚的底部,且第二感应加热线圈的频率大于第一感应加热线圈的频率。通过在第一感应加热线圈的外侧设置第二感应加热线圈,通过控制器根据温度数据独立控制第一感应加热线圈和/或第二感应加热线圈,以达到承料坩埚内部轴向温度梯度的“微调”,从而实现精确控制轴向温度梯度、获得理想晶体生长界面、得到高质量的碳化硅单晶的目的。 | ||
搜索关键词: | 碳化硅 生长 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种碳化硅单晶生长装置,其特征在于,包括:承料坩埚,用于放置碳化硅原料;第一感应加热线圈,设置于整个所述承料坩埚的外周;第二感应加热线圈,设置于所述第一感应加热线圈的外周;所述第二感应加热线圈的位置靠近所述承料坩埚的底部,且所述第二感应加热线圈的频率大于所述第一感应加热线圈的频率;测温器,用于采集所述承料坩埚顶部与底部的温度数据;控制器,用于接收所述测温器发送的温度数据,并独立控制所述第一感应加热线圈和/或所述第二感应加热线圈,以调整所述承料坩埚内部的轴向温度梯度。
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