[发明专利]一种菁、香豆素、二羰基氟化硼杂化荧光染料的合成及其应用有效
| 申请号： | 201910627026.1 | 申请日： | 2019-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN110183478B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 胡志强;王鲲鹏;石广晋;王硕;陈绍晋;张琦 | 申请（专利权）人： | 青岛科技大学 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;C09B23/10 |
| 代理公司： | 青岛中天汇智知识产权代理有限公司 37241 | 代理人： | 刘晓 |
| 地址： | 266000 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种具有荧光性质的菁、香豆素、二氟硼杂化的新型染料合成方法，其结构通式如式Ⅰ所示。该类染料是通过设计，合成了一种7位为二乙氨基供电子基，3位为6‑甲基二氟化硼‑β‑二羰基六元环，该六元环的甲基受吸电子效应活化在不同反应条件下与1,3,3‑三甲基‑2‑亚甲基吲哚啉乙醛发生两次Knoevenagel缩合，增长共轭链长度同时又引入了菁的结构，形成了菁、香豆素、二氟硼杂化的新型杂化染料Ⅰ。合成方法简单，在荧光探针、生命分析和光电材料等领域有着广阔的应用前景。 |
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| 搜索关键词： | 一种 香豆素 羰基 氟化 硼杂化 荧光 染料 合成 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种菁、香豆素、二羰基氟化硼杂化的新型染料的合成和应用，其特征在于具有式Ⅰ的化学结构：![]()
式Ⅰ中，负离子X为卤素原子、高氯酸根、硝酸根、乙酸根。
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