[发明专利]一种超低损耗单模光纤的制造方法及装置

摘要

本发明提供一种超低损耗单模光纤的制造方法，采用VAD法，将石英玻璃靶棒放在沉积装置内，制造光纤预制棒的芯棒疏松体；将制作完成的芯棒疏松体制品放置到烧结装置中得到芯棒玻璃体；将芯棒进行高温脱气、拉伸后制作成用于沉积外包层的芯棒，通过外包层沉积、烧结后制作成光纤预制棒；光纤预制棒延伸到尺寸小、直径均匀的预制棒；将步骤4中的的预制棒放入光纤拉丝炉进行光纤拉丝，最终获得了超低损耗单模光纤。还记录了一种超低损耗单模光纤的制造方法的沉积装置，一种超低损耗单模光纤的制造方法的沉积装置。本发明的有益效果是通过以上方法，不仅可以获得损耗较低的超低损耗光纤，同时可以进行规模化生产，并且付出较低的生产成本。

主权项

1.一种超低损耗单模光纤的制造方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1、采用VAD法，将石英玻璃靶棒放在沉积装置内，制造光纤预制棒的芯棒疏松体；所述的步骤1具体包括以下步骤：1)将石英玻璃靶棒的底部降低到芯层沉积反应室内，芯层沉积喷灯燃烧产生SiO2粉末体在旋转的石英玻璃靶棒上堆积，石英玻璃靶棒以1mm/min～3mm/min的速度向上提升，2)在均热的石英管内通入He和Cl2，将电阻炉升温，使得石英管的上部温度达到1350℃，3)石英玻璃靶棒芯层脱水固化后进入包层沉积反应室，利用内包层沉积喷灯燃烧产生SiO2粉末沉积到芯层外部，形成芯棒的包层，最后完成芯棒疏松体制品的沉积；步骤2、将制作完成的芯棒疏松体制品放置到烧结装置中，经过加热、脱水、退火得到芯棒玻璃体；所述的步骤2具体包括以下步骤：1)将制作完成的芯棒疏松体先放置在均热炉内进行包层脱水，2)然后对包层进行F元素掺杂，3)掺杂完成后放入高温烧结炉内进行烧结成玻璃体；步骤3、将芯棒进行高温脱气、拉伸后制作成用于沉积外包层的芯棒，通过外包层沉积、烧结后制作成光纤预制棒；步骤4、光纤预制棒延伸到尺寸小、直径均匀的预制棒；步骤5、将步骤4中的的预制棒放入光纤拉丝炉进行光纤拉丝，最终获得了超低损耗单模光纤。