[发明专利]成膜方法和成膜装置有效

专利信息
申请号: 201910629781.3 申请日: 2019-07-12
公开(公告)号: CN110714191B 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 门田太一 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;H01L21/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种成膜方法和成膜装置。一边从平衡气体供给通路向处理容器内的基板供给平衡气体,一边经由反应气体供给通路向该基板依次供给彼此发生反应的多种反应气体,来层叠反应生成物并形成薄膜,包括:成膜工序,一边连续地供给平衡气体,一边针对多种反应气体中的各种气体依次进行以下动作:将反应气体贮存到贮存部中使其升压,从贮存部向处理容器内喷出该反应气体;吹扫工序,将以下动作反复进行多次:将吹扫气体贮存到贮存部中来使其升压至比成膜工序中的对应的贮存部的升压时的压力高的压力,从贮存部向处理容器内喷出该吹扫气体,其中,在吹扫工序中向处理容器内供给的平衡气体的流量小于在成膜工序中向处理容器内供给的平衡气体的流量。
搜索关键词: 方法 装置
【主权项】:
1.一种成膜方法,一边从有别于按反应气体的种类设置的反应气体供给通路地另外设置的平衡气体供给通路向真空气氛的处理容器内的基板连续地供给平衡气体,一边经由所述反应气体供给通路向所述基板依次供给彼此发生反应的多种反应气体,来在所述基板上层叠反应生成物并形成薄膜,所述成膜方法包括以下工序:/n成膜工序,一边连续地供给所述平衡气体,一边针对多种反应气体中的各种反应气体依次进行以下动作:将反应气体贮存到设置于所述反应气体供给通路的贮存部中来使该贮存部升压,之后从所述贮存部向所述处理容器内喷出该反应气体;以及/n吹扫工序,将以下动作反复进行多次:将吹扫气体贮存到设置于所述反应气体供给通路的所述贮存部中来使该贮存部升压至比所述成膜工序中的对应的所述贮存部的升压时的压力高的压力,之后从所述贮存部向所述处理容器内喷出该吹扫气体,/n其中,在所述吹扫工序中向所述处理容器内供给的所述平衡气体的流量小于在所述成膜工序中向所述处理容器内供给的所述平衡气体的流量。/n
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