[发明专利]确定MPCVD装置用托盘结构的工装和方法有效
| 申请号： | 201910631217.5 | 申请日： | 2019-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN110512191B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 范波;吴啸;郭兴星;常豪锋 | 申请（专利权）人： | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人： | 贾东东 |
| 地址： | 450000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种MPCVD装置用托盘本体、确定MPCVD装置用托盘结构的工装和方法。MPCVD装置用托盘本体具有用于支撑放置沉积载体的支撑上侧；托盘本体具有支撑下侧，支撑下侧设有中心台安装结构，用于可拆安装中心导热台，中心导热台用于与冷却台导热支撑配合；支撑下侧设有导热环安装结构，用于可拆安装外侧导热环，外侧导热环用于与冷却台导热支撑配合，导热环安装结构沿托盘本体径向分布有至少两处。可根据实际需要选择安装相应的中心导热台，还可根据实际需要选择性适配外侧导热环，以使托盘与冷却台之间具有沿径向上的多种不同尺寸的接触面积，以组装成多个不同结构的托盘，以便于从中选取径向温度均匀性最优的托盘结构。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 mpcvd 装置 托盘 结构 工装 方法 | ||
【主权项】：
1.一种MPCVD装置用托盘本体，其特征在于：/n托盘本体具有用于支撑放置沉积载体的支撑上侧；/n托盘本体具有支撑下侧；/n所述支撑下侧于托盘本体中心设有中心台安装结构，用于可拆安装中心导热台，中心导热台用于与MPCVD装置的冷却台导热支撑配合；/n所述支撑下侧于中心台安装结构的外侧设有导热环安装结构，用于可拆安装外侧导热环，外侧导热环用于与所述冷却台导热支撑配合，所述导热环安装结构沿托盘本体径向分布有至少两处。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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