[发明专利]基于超表面的四波束涡旋场共形反射面天线有效

专利信息
申请号: 201910632486.3 申请日: 2019-07-13
公开(公告)号: CN110429390B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 杨锐;高鸣;高东兴;顾宸光 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01Q19/13 分类号: H01Q19/13;H01Q5/55
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 陈宏社;王品华
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提出了一种基于超表面的四波束涡旋场共形反射面天线,用于解决现有技术中存在的共形涡旋场天线辐射覆盖范围小的问题,包括反射镜和馈源;所述反射镜采用抛物柱面超表面结构,包括形状为抛物柱面的介质基板,其法线正方向指向口径面或背离口径面的一侧印制有金属环阵列,另一侧印制有金属底板,所述金属环阵列被划分为i×i个区域,每个区域由2×2个子区域组成,每个子区域包含均匀排布的j×j个金属环微结构,且每个区域内主对角线上两个子区域内的金属环微结构和从对角线上两个子区域内的金属环微结构相位补偿数值的初始相位相差180°;本发明能够在四个方向产生涡旋波束,增大辐射覆盖范围,并在非平面载体上共形加载。
搜索关键词: 基于 表面 波束 涡旋 场共形 反射 天线
【主权项】:
1.一种基于超表面的四波束涡旋场共形反射面天线,其特征在于,包括反射镜(1)和馈源(2);所述反射镜(1)采用超表面结构,包括形状为抛物柱面的介质基板(11),其法线正方向指向口径面的一侧印制有金属环阵列(12),另一侧印制有金属底板(13),所述金属环阵列(12)包括周期性均匀排列的多个金属环微结构(121),该金属环阵列(12)被划分为i×i个区域,每个区域由2×2个子区域组成,每个子区域包含的金属环微结构(121)的数量为j×j个,2≤i,2≤j≤8,且每个区域内主对角线上两个子区域内的金属环微结构(121)和从对角线上两个子区域内的金属环微结构(121)相位补偿数值的初始相位相差180°;所述馈源(2)采用点源结构,其相位中心位于反射镜(1)的焦点位置。
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