[发明专利]一种提高多头菊切花品质的设施基质栽培方法在审
申请号: | 201910637326.8 | 申请日: | 2019-07-15 |
公开(公告)号: | CN110506606A | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 郭方其;柴金甫;吴超;袁峰;丁晓瑜;徐智豪;黎侠 | 申请(专利权)人: | 浙江省农业科学院;嘉兴嘉德园艺有限公司 |
主分类号: | A01G24/22 | 分类号: | A01G24/22;A01G24/25;A01G24/28;C05G1/00 |
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地址: | 310021 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开一种提高多头菊切花品质的设施基质栽培方法,属于多头菊设施栽培方法领域,该方法包括制备基质,基质由泥炭、椰糖、松鳞按质量比为8:1:1复配制成;配制水溶性专用配方肥、组培苗培育、扦插生根培养、基质预处理、种苗移栽和定植培育、花期调控,通过人工光照对植株进行光处理调节,控制花期和生长高度;光处理调节依次包括长日照处理、长日照补光处理、二次电照补光处理、栽培管理;本发明提供的一种提高多头菊切花品质的设施基质栽培方法,通过独特的基质和配方肥,并结合多头菊设施基质栽培管理和花期调控、解决现有多头菊设施栽培中土壤连作障碍,导致白绢病和菌核病等病害危害严重、切花成品率低和品质不稳定等问题。 | ||
搜索关键词: | 光处理 基质 多头 基质栽培 切花 花期调控 设施栽培 预处理 泥炭 专用配方肥 控制花期 连作障碍 人工光照 生根培养 栽培管理 种苗移栽 植株 成品率 菌核病 配方肥 质量比 组培苗 次电 定植 复配 扦插 椰糖 制备 病害 培育 配制 日照 生长 土壤 管理 | ||
【主权项】:
1.一种提高多头菊切花品质的设施基质栽培方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:/n(一)制备基质;/n所述基质由泥炭、椰糖、松鳞按质量比为8:1:1复配制成;/n(二)配制水溶性专用配方肥;/n(三)设施基质栽培;/n所述多头菊栽培过程包括如下步骤:/n组培苗培育;/n选择2月下旬至4月中旬作为组培苗移栽时间,将组培苗培育成采穗母本;/n扦插生根培养;/n在6月下旬至9月上旬将步骤(1)培育的所述采穗母本穗条扦插在以椰糠作为生根基质的苗床上,生根培养;/n基质预处理;/n步骤(2)培育的生根苗移栽前一星期将所述(一)中的所述基质先浇透水并经消毒处理;/n种苗移栽和定植培育;/n取步骤(1)培育的生根苗当天移栽至步骤(3)中准备好的所述基质中,开始定植培养;/n花期调控/n通过人工光照对植株进行光处理调节,控制花期和生长高度;所述光处理调节依次包括长日照处理(51)、长日照补光处理(52)、二次电照补光处理(53);/n栽培管理/n利用栽培设施对多头菊的生长实施温度管理、湿度管理、防倒伏管理、通风管理、喷药管理和水分管理。/n
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