[发明专利]一种甲脒基钙钛矿薄膜的后修复方法有效
| 申请号： | 201910638203.6 | 申请日： | 2019-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN112242490B | 公开（公告）日： | 2023-01-20 |
| 发明（设计）人： | 逄淑平;崔光磊;李志鹏;王啸 | 申请（专利权）人： | 中国科学院青岛生物能源与过程研究所 |
| 主分类号： | H10K71/00 | 分类号： | H10K71/00;H10K71/12;H10K71/40;H10K30/50;H10K30/60;H10K50/10;H10K30/10 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 李颖 |
| 地址： | 266101 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： |
本发明属于薄膜材料的制备方法，具体涉及一种通过后气体修复方式的甲脒基钙钛矿薄膜的后修复方法。在0℃到100℃下，将甲脒基钙钛矿(结构式为ABX |
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| 搜索关键词： | 一种 甲脒基钙钛矿 薄膜 修复 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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