[发明专利]一种用于MOCVD制备薄膜的流道可调反应腔装置

摘要

本发明公开了一种用于MOCVD制备薄膜的流道可调反应腔装置，包括加热器、可调喷淋头、角度可调冷壁和弹性密封片；加热器上方设置有角度可调冷壁；可调喷淋头设置在角度可调冷壁的一侧部；可调喷淋头与角度可调冷壁和加热器之间设置有弹性密封片；角度可调冷壁的另一侧部，与加热器之间设置有流向出口；加热器外部设置有加热器外壳；可调喷淋头、加热器、加热器外壳、角度可调冷壁以及弹性密封片之间构成一个单端开口的空间。本案由于可调喷淋头不正对加热器和衬底基带，温升小，可近距离布置；气体扩散空间小，提高了金属有机源的利用率，降低成本；可调喷淋头、角度可调冷壁与衬底的方向、角度和距离都可调，方便的调整薄膜沉积的均匀性。

主权项

1.一种用于MOCVD制备薄膜的流道可调反应腔装置，其特征在于：包括加热器、可调喷淋头、角度可调冷壁和弹性密封片；所述加热器上方设置有角度可调冷壁；所述可调喷淋头设置在角度可调冷壁的一侧部；所述可调喷淋头与角度可调冷壁之间设置有弹性密封片；所述可调喷淋头与加热器之间设置有弹性密封片；所述角度可调冷壁的另一侧部，与加热器之间设置有流向出口；所述加热器外部设置有加热器外壳；所述可调喷淋头、加热器、加热器外壳、角度可调冷壁以及弹性密封片之间构成一个单端开口的空间。