[发明专利]竖直半导体器件在审

专利信息
申请号: 201910644213.0 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN110970442A 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 郑泰哲;朴凤泰;沈载株 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11529 分类号: H01L27/11529;H01L27/11556;H01L27/11573;H01L27/11582
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种竖直半导体器件包括具有第一区域和第二区域的衬底。第一区域上的导电图案沿第一方向延伸。第一区域包括单元区域、第一虚设区域和第二虚设区域。导电图案沿第一方向延伸。焊盘设置在第二区域上,焊盘接触导电图案的侧面。多个第一虚设结构延伸穿过第一虚设区域上的导电图案。多个第二虚设结构延伸穿过第二虚设区域上的导电图案,第二虚设结构设置成沿与第一方向垂直的第二方向延伸的多列。第二虚设结构的上表面的宽度在每列中不同,并且第二虚设结构的上表面的宽度朝向第二区域增加。
搜索关键词: 竖直 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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