[发明专利]一种用于KDP晶体的抛光液及其制备方法、应用有效
| 申请号： | 201910645289.5 | 申请日： | 2019-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN110295011B | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 董会;潘金龙;郭亮龙;黄姝珂;王超;王利利;李晓媛;叶敏恒 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | C09G1/04 | 分类号： | C09G1/04;B24B57/02 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 唐邦英 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于KDP晶体的抛光液及其制备方法、应用，所述抛光液由以下体积百分比组分组成：极性相：1～10％；非极性相：30％～55％；余量为双溶剂相。本发明的抛光液制备方法简单、性质稳定，在较低的抛光压力下(1～2.5kPa)即可实现飞切刀纹的有效去除，避免了较高的抛光压力可能带来亚表面损伤等问题，且抛光后表面粗糙度得到一定程度的改善。抛光液成分为常用有机试剂且不与KDP发生化学反应，抛光液不使用两亲性表面活性剂，抛光后只需要采用抛光液的组分之一(双溶剂相)进行简单的表面冲洗，即可实现表面清洁，不会在表面产生任何的杂质残留。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 kdp 晶体 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种用于KDP晶体的抛光液，其特征在于，所述抛光液由以下体积百分比组分组成：极性相：1～10％；非极性相：30％～55％；余量为双溶剂相。
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