[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法有效

专利信息
申请号: 201910647791.X 申请日: 2019-07-18
公开(公告)号: CN110750034B 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: 柴田雄吾;远藤淳生;布施直人 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 许海兰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法,提供在设置有调整光学元件的位置的调整机构时的该光学元件的振动的方面有利的技术。在具备调整光学元件的位置的调整机构的光学装置中,所述调整机构包括:第一引导部,在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动;第二引导部,在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动;以及第三引导部,在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。
搜索关键词: 光学 装置 投影 光学系统 曝光 以及 物品 制造 方法
【主权项】:
1.一种光学装置,具备调整光学元件的位置的调整机构,其特征在于,所述调整机构包括:/n第一引导部,在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动;/n第二引导部,在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动;以及/n第三引导部,在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。/n
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