[发明专利]流体处理结构、光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201910653552.5 | 申请日： | 2015-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN110286567B | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | C·M·诺普斯;W·T·M·斯托尔斯;D·贝斯塞蒙斯;G·L·加托比焦;V·M·布兰科卡巴洛;E·H·E·C·尤姆麦伦;R·范德含;F·A·范德桑德;W·A·韦尔纳 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B01D19/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种用于光刻设备的流体处理结构被配置成将浸没流体容纳至一区域，流体处理结构在空间的边界处具有：至少一个气刀开口，在从该空间沿径向向外的方向上；和至少一个气体供应开口，在相对于该空间从至少气刀开口沿径向向外的方向上。气刀开口和气体供应开口都提供基本上纯的CO |
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| 搜索关键词： | 流体 处理 结构 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸没系统，包括流体处理结构，所述流体处理结构被配置成将浸没流体容纳到一区域，所述流体处理结构在空间的边界处具有：至少一个开口，配置成将液体供给至所述空间；提取器组件，配置成从所述空间提取所述液体；至少一个气刀开口，所述至少一个气刀开口在从所述空间沿径向向外的方向上；和至少一个气体供应开口，所述至少一个气体供应开口在相对于所述空间从所述至少一个气刀开口沿径向向外的方向上；气体供应系统，所述气体供应系统被配置成通过所述至少一个气刀开口和所述至少一个气体供应开口供应气体；和至少一个气体回收开口，所述至少一个气体回收开口在所述至少一个气刀开口和至少一个气体供应开口的径向向外的位置上，其中所述至少一个气刀开口和/或至少一个气体供应开口依赖于所述流体处理结构的以下特定的特性来动态地进行控制，所述特定的特性包括所述流体处理结构的移动方向、速率、速度和/或位置。
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