[发明专利]统计过程控制方法及其控制系统在审
| 申请号： | 201910659118.8 | 申请日： | 2019-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN110426999A | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 徐致远 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G05B19/418 | 分类号： | G05B19/418 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 焦天雷 |
| 地址： | 201315 上海市浦东新区中国（上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于Fab内制程机台颗粒缺陷监测的统计过程控制方法，包括以：按第一规则收集制程机台颗粒缺陷监测数据，将收集的制程机台颗粒缺陷监测数据按第二规则计算获得标准差，按第三规则选取控制限；将选取的控制限作为统计过程控制的控制限。本发明还公开了一种用于Fab内制程机台颗粒缺陷监测的统计过程控制系统。本发明以n≥7作为数据平均值计算周期，再以计算获得的平均值计算标准差σ。以3σ作为控制限进行控制，能准确发现异常，及时发现量产过程中由特殊原因导致的异常，及时改善，能进一步提高量产品品质。 | ||
| 搜索关键词： | 颗粒缺陷 制程机台 控制限 统计过程控制 平均值计算 监测数据 标准差 统计过程控制系统 产品品质 规则收集 规则选取 控制系统 监测 量产 发现 | ||
【主权项】：
1.一种统计过程控制方法，用于Fab内制程机台颗粒缺陷监测，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1，按第一规则收集制程机台颗粒缺陷监测数据；步骤S2，将步骤S1收集的制程机台颗粒缺陷监测数据按第二规则计算获得标准差(σ)；步骤S3，按第三规则选取控制限；步骤S4，将步骤S3选取的控制限作为统计过程控制的控制限。
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