[发明专利]基于妆容模板的图像处理方法、装置、存储介质及终端有效
| 申请号： | 201910662449.7 | 申请日： | 2019-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN110390632B | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 余远坤 | 申请（专利权）人： | 北京七鑫易维信息技术有限公司 |
| 主分类号： | G06T3/00 | 分类号： | G06T3/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 100102 北京市朝阳区望京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于妆容模板的图像处理方法、装置、存储介质及终端。该方法包括：获取至少一个局部妆容模板图像，并根据局部妆容模板图像中的特征点确定待化妆目标图像中的待调整区域子图像；基于局部妆容模板图像生成掩膜图像和调整图像；根据掩膜图像对调整图像和待调整区域子图像进行融合处理，得到待调整区域子图像的化妆效果子图像；基于化妆效果子图像确定待化妆图像的化妆效果图像。本发明的技术方案，基于局部妆容模板生成过渡均匀的掩膜图像，并采用过渡均匀的掩膜图像融合调整图像和待调整区域子图像，使得图像融合后得到的调整区域子图像的化妆效果子图像没有明显边界，图像过渡自然。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 模板 图像 处理 方法 装置 存储 介质 终端 | ||
【主权项】：
1.一种基于妆容模板的图像处理方法，其特征在于，包括：获取至少一个局部妆容模板图像，并根据所述局部妆容模板图像中的特征点确定待化妆目标图像中的待调整区域子图像；基于所述局部妆容模板图像生成掩膜图像和调整图像；根据所述掩膜图像对所述调整图像和待调整区域子图像进行融合处理，得到所述待调整区域子图像的化妆效果子图像；基于所述化妆效果子图像确定所述待化妆图像的化妆效果图像。
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