[发明专利]一种WO3纳米线及其制备方法与应用在审
申请号: | 201910663055.3 | 申请日: | 2019-07-22 |
公开(公告)号: | CN110304659A | 公开(公告)日: | 2019-10-08 |
发明(设计)人: | 刘金成;张锦宏;王晓钰;赵伟;丁中祥 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | C01G41/02 | 分类号: | C01G41/02;B01J23/30;B01J23/68;B01J27/24;B01J35/06;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 许庆胜 |
地址: | 510060 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及光催化材料技术领域,尤其涉及一种WO3纳米线及其制备方法与应用。本发明公开了一种WO3纳米线。本发明中,具有氧缺空位的非化学计量三氧化钨(W18O49)无毒,良好的化学稳定性,能更高效的吸收可见光和近红外光,具备较高的可见光催化活性,且W18O49直径小,可以组装孔径更小的高性能膜。另外,将钨酸与有机溶剂进行混合并超声处理,使得有机溶剂进入钨酸的层间,然后剥离剂通过中和反应除去过量的有机溶剂,在溶剂热的反应下,剥离剂进一步与钨酸层间的有机溶剂发生反应,剥离钨酸,使得钨酸剥离成更高浓度的WO6,有利于成核,并使得钨酸沿着一维方向结晶成超长超细的纳米线。 | ||
搜索关键词: | 钨酸 有机溶剂 纳米线 剥离剂 层间 制备 剥离 可见光催化活性 非化学计量 光催化材料 化学稳定性 可见光 超声处理 方向结晶 高性能膜 近红外光 三氧化钨 中和反应 溶剂热 空位 超细 成核 应用 过量 无毒 组装 吸收 | ||
【主权项】:
1.一种WO3纳米线,其特征在于,所述WO3纳米线为W18O49纳米线;所述W18O49纳米线的直径为1~10nm,长度为0.5~10μm;所述W18O49纳米线由以下制备方法制得:步骤1:将钨酸与有机溶剂进行混合,超声处理,得到钨酸混合物;步骤2:将所述钨酸混合物与剥离剂混合,进行溶剂热反应,得到WO3纳米线;所述剥离剂为10个碳原子以上的有机胺;所述有机溶剂为苄醇、苄酸或6个碳原子以下的羧酸或醇。
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