[发明专利]一种物理不可克隆函数电路，集成电路及制备方法

摘要

本发明公开了一种物理不可克隆函数电路，包括至少两个串联光刻蚀结构和运算放大器，串联光刻蚀结构包括相互串联的第一光刻蚀结构和第二光刻蚀结构，第一光刻蚀结构与第二光刻蚀结构之间形成有连接点，运算放大器的两个输入端分别与两个串联光刻蚀结构的连接点连接。第一光刻蚀结构具体通过第一预设版图光刻蚀而成，第一预设版图的第一遮蔽图形包括第一遮蔽指，第二光刻蚀结构具体通过第二预设版图光刻蚀而成，第二预设版图的第三遮蔽图形包括第二遮蔽指。上述物理不可克隆函数电路仅由串联光刻蚀结构和运算放大器构成，其结构非常简单。本发明还提供了一种物理不可克隆函数电路的制备方法及一种集成电路，同样具有上述有益效果。

主权项

1.一种物理不可克隆函数电路，其特征在于，包括至少两个串联光刻蚀结构和运算放大器；所述串联光刻蚀结构包括相互串联的第一光刻蚀结构和第二光刻蚀结构，所述第一光刻蚀结构与所述第二光刻蚀结构之间形成有连接点；所述运算放大器的一输入端与一所述串联光刻蚀结构中所述连接点连接，所述运算放大器的另一输入端与另一所述串联光刻蚀结构中所述连接点连接；所述第一光刻蚀结构包括沿水平方向分布且相互隔离的第一导体和第二导体，所述第一导体与所述第二导体均通过第一预设版图光刻蚀而成；所述第一预设版图包括对应第一导体的第一遮蔽图形，以及对应第二导体的第二遮蔽图形；所述第一遮蔽图形包括至少一个沿预设方向延伸的第一遮蔽指；所述第二光刻蚀结构包括沿水平方向分布且相互隔离的第三导体和第四导体，所述第三导体与所述第四导体均通过第二预设版图光刻蚀而成；所述第二预设版图包括对应第三导体的第三遮蔽图形，以及对应第四导体的第四遮蔽图形；所述第二遮蔽图形包括至少一个沿预设方向延伸的第二遮蔽指。