[发明专利]掩膜片及其制作方法、开口掩膜板及其使用方法、薄膜沉积设备

摘要

本发明提供了一种掩膜片及其制作方法、开口掩膜板及其使用方法、薄膜沉积设备，涉及掩膜板技术领域，能够提高膜层整体的沉积效果。其中的掩膜片包括多个开口；沿所述掩膜片的厚度方向，所述掩膜片的一侧且位于每个所述开口的边缘均具有一圈第一凹槽；沿所述掩膜片的厚度方向，所述掩膜片的另一侧且靠近每个所述开口的边缘均设置有第二凹槽。

主权项

1.一种掩膜片，其特征在于，包括多个隔离条；多个所述隔离条呈网格状分布间隔出多个开口；在所述掩膜片的第一侧面上，沿所述掩膜片的厚度方向，在每个所述开口的边缘朝向所述隔离条的延伸处设置第一凹槽；在所述掩膜片的第二侧面上，沿所述掩膜片的厚度方向，在每个所述第一凹槽相对位置处设置第二凹槽；所述第一侧面与所述第二侧面平行且相对设置，与所述掩膜片的厚度方向垂直；所述第一凹槽与第二凹槽在所述掩膜片的厚度方向上的投影不完全重合。