[发明专利]耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件在审
| 申请号： | 201910672314.9 | 申请日： | 2019-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN110873702A | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 星野弘气;户高昌也;大类知生 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01N21/94;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性的耐指纹性的评价方法、利用了该评价方法的光学构件的生产方法以及耐指纹性优异的光学构件。该耐指纹性的评价方法中，测定评价对象表面的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，接着，在评价对象的表面上涂布油酸稀释液并使其干燥后，测定由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*，将涂布油酸稀释液前后的明度L*作为指标，评价评价对象的表面的耐指纹性。 | ||
| 搜索关键词： | 指纹 评价 方法 光学 构件 生产 | ||
【主权项】：
暂无信息
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