[发明专利]离子注入程式的正确性验证方法及装置在审

专利信息
申请号: 201910673189.3 申请日: 2019-07-24
公开(公告)号: CN110400074A 公开(公告)日: 2019-11-01
发明(设计)人: 孙天拓;高杏;陆叶涛 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G06Q10/06 分类号: G06Q10/06;G06Q50/04;G16C20/10;G16C20/70;H01J37/317
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种离子注入程式的正确性验证方法及装置。方法包括:确定目标离子注入程式,获取与目标离子注入程式对应的实际离子注入参数;基于目标离子注入程式名获取常数型校验规则,比对实际离子注入参数与离子注入参数目标值是否一致;获取函数型校验规则,函数型校验规则包括不同离子注入参数之间的对应关系,判定实际离子注入参数之间是否符合函数型校验规则;当实际离子注入参数与离子注入参数目标值一致,且符合函数型校验规则时,将目标离子注入程式对应的实际离子注入参数作为基准版本导入至程式管理模块中。本发明提供的方法可以确保离子注入程式的实际离子注入参数的正确建立。
搜索关键词: 离子注入参数 校验规则 目标离子 离子 正确性验证 管理模块 比对 判定
【主权项】:
1.一种离子注入程式的正确性验证方法,其特征在于,包括:确定出目标离子注入程式,并获取与所述目标离子注入程式对应的实际离子注入参数,其中,所述目标离子注入程式为待存储至程式管理模块中的离子注入程式,以及所述目标离子注入程式的目标离子注入程式名用于指示所述目标离子注入程式对应的常数型校验规则,所述常数型校验规则包括与所述目标离子注入程式对应的离子注入参数目标值,所述离子注入参数目标值为所述目标离子注入程式所对应的正确离子注入参数;基于所述目标离子注入程式名获取所述常数型校验规则,并比对所述实际离子注入参数与所述离子注入参数目标值是否一致,当一致时,确定所述实际离子注入参数正确,否则,确定所述实际离子注入参数错误;获取预先建立的函数型校验规则,所述函数型校验规则包括不同离子注入参数之间的对应关系,判定实际离子注入参数之间是否符合所述函数型校验规则,当符合时,确定所述实际离子注入参数正确;当所述实际离子注入参数与所述离子注入参数目标值一致,且符合所述函数型校验规则时,将所述目标离子注入程式对应的实际离子注入参数作为基准版本存储至离子注入程式的正确性验证装置的程式管理模块中。
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