[发明专利]封装结构及其形成方法在审
申请号: | 201910675798.2 | 申请日: | 2019-07-25 |
公开(公告)号: | CN110534440A | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 石磊 | 申请(专利权)人: | 南通通富微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/60;H01L23/31 |
代理公司: | 31294 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 高德志<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 226001 江苏省南通市苏通科技产*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种封装结构及其形成方法,所述形成方法提供若干半导体芯片,每个半导体芯片的功能面上具有焊盘和金属凸块,所述功能面上还具有第一塑封层,所述第一塑封层覆盖所述金属凸块;提供载板;在所述载板表面上形成若干布线层,在所述布线层上形成连接件;将所述若干半导体芯片的非功能面粘合在所述连接件一侧的载板上;在所述载板上形成包覆所述半导体芯片的侧壁以及非功能面上的第一塑封层的第二塑封层;平坦化去除所述载板上的部分所述第一塑封层和第二塑封层,暴露出所述金属凸块的顶部表面;在所述平坦化后的第一塑封层和第二塑封层的表面上形成与金属凸块连接的外部接触结构。本发明的方法提高了封装结构中再布线层与焊盘的电学连接性能。 | ||
搜索关键词: | 塑封层 半导体芯片 金属凸块 封装结构 布线层 连接件 平坦化 焊盘 载板 电学连接 顶部表面 非功能面 外部接触 再布线层 板表面 粘合 包覆 侧壁 去除 暴露 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种封装结构的形成方法,其特征在于,包括:/n提供若干半导体芯片,每个半导体芯片包括功能面和与功能面相对的非功能面,所述功能面上具有若干焊盘,所述焊盘表面上形成有金属凸块,所述功能面上还具有第一塑封层,所述第一塑封层覆盖所述金属凸块;/n提供载板;/n在所述载板表面上形成若干布线层,在所述布线层上形成连接件;/n将所述若干半导体芯片的非功能面粘合在所述连接件一侧的载板上;/n在所述载板上形成包覆所述半导体芯片的侧壁、非功能面上的第一塑封层以及连接件的第二塑封层;/n平坦化去除所述载板上的部分所述第一塑封层和第二塑封层,暴露出所述金属凸块的顶部表面;/n在所述平坦化后的第一塑封层和第二塑封层的表面上形成与金属凸块连接的外部接触结构,所述外部接触结构与所述连接件连接;/n剥离所述载板。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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