[发明专利]基于微纳米气相和洛伦兹力的高精度均匀化抛光装置有效
申请号: | 201910675889.6 | 申请日: | 2019-07-25 |
公开(公告)号: | CN110405620B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 赵军;彭浩然;方海东 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B24B31/112 | 分类号: | B24B31/112;B24B31/12;B24B1/00 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 王利强 |
地址: | 310014 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种基于微纳米气相和洛伦兹力的高精度均匀化抛光装置,包括由压力表、加工装置、磨粒缸、泵和控制阀组成的低压磨粒流回路,置于加工装置后方的电磁铁,置于磨粒缸中的搅拌器和水冷装置以及系统控制器;低压磨粒流在角度可调的楔形流道内抛光工件;角度可调指楔形流道的顶面倾斜角度可调;微纳米气相指磨粒流中的微小空化泡,由安装在加工装置流道入口前的微纳米气泡发生器产生;洛伦兹力为磁场对带电磨粒的作用力;磁场为置于加工装置后方的电磁铁所产生的平行于工件表面且垂直于磨粒流流动方向的强度可调均匀磁场;带负电磨粒为表面带负电荷的碳化硅磨粒。本发明使工件抛光后表面粗糙度均匀、表面精度提高、加工效率提高。 | ||
搜索关键词: | 基于 纳米 洛伦兹力 高精度 均匀 抛光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基于微纳米气相和洛伦兹力的高精度均匀化抛光装置,其特征在于,所述高精度均匀化抛光装置包括由压力表、加工装置、磨粒缸、泵和控制阀组成的低压磨粒流回路,置于加工装置后方的电磁铁,置于磨粒缸中的搅拌器和水冷装置以及系统控制器,所述低压磨粒流回路设有微纳米气泡发生器;所述高精度均匀化抛光通过低压磨粒流实现;所述低压磨粒流在角度可调的楔形流道内抛光工件;所述角度可调指楔形流道的顶面倾斜角度可调,通过加工装置内的角度调整机构实现;所述微纳米气相指磨粒流中的微小空化泡,由安装在加工装置流道入口前的微纳米气泡发生器产生,所述空化泡膨胀后瞬间闭合产生的冲击波能够提高磨粒流湍流强度;所述洛伦兹力为磁场对带电磨粒的作用力;所述磁场为置于加工装置后方的电磁铁所产生的平行于工件表面且垂直于磨粒流流动方向的强度可调均匀磁场,在所述磁场的作用下,流场中运动的带负电磨粒受到垂直指向工件表面的洛伦兹力作用,向工件表面运动;所述带负电磨粒为表面带负电荷的碳化硅磨粒。
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