[发明专利]光学系统偏振结构在审
申请号: | 201910680990.0 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN110376754A | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 许义翔;林祖玮;杨雅筑;陈忠君 | 申请(专利权)人: | 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B27/28 | 分类号: | G02B27/28;G02B27/09 |
代理公司: | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人: | 杨冬梅;张行知 |
地址: | 611730 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 一种光学系统偏振结构,包括有:一垂直共振腔面射雷射发射器、一晶圆级光学元件、一绕射光学元件、一偏振片及一1/4λ波片;其中,该偏振片设于该晶圆级光学元件与该绕射光学元件之间处,其令椭圆偏振光通过该偏振片之光栅形成线性偏振光;该1/4λ波片设于该偏振片与该绕射光学元件之间处,其令线性偏振光再通过该1/4λ波片而形成圆形偏振光;藉此,通过该偏振片、该1/4λ波片做偏振光校正,将单波长雷射光的圆形光斑校正,使改善了光斑形貌至理想形貌,提高质心位置计算准确率,因此提高了点投射器深度反馈讯号精度。 | ||
搜索关键词: | 偏振片 波片 绕射光学元件 线性偏振光 光学系统 光学元件 偏振结构 晶圆级 校正 偏振光 形貌 雷射发射器 椭圆偏振光 圆形偏振光 光栅 光斑形貌 深度反馈 圆形光斑 质心位置 单波长 共振腔 雷射光 投射器 准确率 面射 垂直 | ||
【主权项】:
1.一种光学系统偏振结构,其特征在于,包括:一垂直共振腔面射雷射发射器,该垂直共振腔面射雷射发射器作为脸部识别产品的发光源,其发出的单波长雷射光为750nm~1100nm波段;一晶圆级光学元件,该晶圆级光学元件设于该垂直共振腔面射雷射发射器之前方,使该垂直共振腔面射雷射发射器发射数个到数百道光束到该晶圆级光学元件做光路的调整;一绕射光学元件,该绕射光学元件设于该晶圆级光学元件之前方,使做光路调整后的数个到数百道光束,通过该绕射光学元件产生点阵雷射光点到用户的脸部;一偏振片,该偏振片设于该晶圆级光学元件与该绕射光学元件之间处,其令椭圆偏振光通过该偏振片之光栅形成线性偏振光;及一1/4λ波片,该1/4λ波片设于该偏振片与该绕射光学元件之间处,其令通过该偏振片后之线性偏振光再通过该1/4λ波片而形成圆形偏振光。
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